Quelle: pv-magazine

Der VDMA (Verbandes Deutsches Maschinenbau Anlage) hat eine Aktualisierung seines jährlichen ITRPV-Berichts (International Technology Roadmap for Photovoltaics) veröffentlicht.
In dem Update stellt die Organisation die wachsende Bedeutung der Wafergröße für deutsche PV-Ausrüster fest. Der chinesische Solarhersteller Longi stellte in diesem Jahr einen 166-mm-M6-Wafer vor, bevor Zhonghuan Semiconductor mit dem von ihm eingeführten 210-mm-Kwafoo-Wafer ein noch größeres Format vorstellte im August.
Die deutschen Ausrüster von Solaranlagen beobachten die Entwicklung auf dem Wafermarkt aufmerksam und der VDMA hat angegeben, dass nur Wafergrößen, die kleiner als 161,7 mm (M4) sind, ohne Änderungen auf bestehenden Anlagen verarbeitet werden können. Der Ingenieurverband sagt, dass für Wafer im Maßstab über 166 mm neue Linien sowohl für mono- als auch für multikristalline Technologien sowie für die Zell- und Modulproduktion erforderlich sind.
Durchsatzängste
In seinem Bericht stellte der VDMA auch Unterschiede im Durchsatz verschiedener Stufen der Zellproduktion fest, was ein weiteres potenzielles Hindernis für Kostensenkungen darstellt. Die ITRPV-Studie ergab, dass bei chemischen Prozessen - Batch- und Inline-Verfahren - bis 2021 Durchsätze in der Größenordnung von 9.000 Wafern pro Stunde erreicht werden sollen, während bei Prozessen wie Metallisierung, Klassifizierung und thermischer Verarbeitung Probleme auftreten, 6.000 pro Stunde zu erreichen.
Dem Bericht zufolge könnten sich die Unterschiede im nächsten Jahrzehnt fortsetzen, wobei nasschemische Prozesse einen schnell wachsenden Durchsatz von bis zu 15.000 Wafern pro Stunde im Jahr 2029 erreichen und andere Phasen in Frage stellen könnten. „Bis 2023 werden maximal> 10.000 Wafer pro Stunde für Metallisierungs- und Prüfgeräte erwartet, dies erfordert jedoch einen erheblichen technischen Aufwand“, heißt es in dem Bericht. „Es wird erwartet, dass die thermische Verarbeitung im Hinblick auf den Durchsatz etwas hinterherhinken wird. Daher sind innovative Anlagen- / Prozesslösungen für einen höheren Durchsatz bei der thermischen Verarbeitung erforderlich. “









